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  • 硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng)，芯片hmds烘箱
    硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng)，芯片hmds烘箱用在芯片、晶圓、硅片等半導(dǎo)體在光刻前對wafer進(jìn)行預(yù)處理,在高溫高真空的狀態(tài)下均勻噴灑霧狀“OAP”藥液并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下烘干以增強(qiáng)wafer的光刻性能。
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  • 前烘潔凈烘箱，軟烘充氮烘箱 真空干燥烘箱
    前烘潔凈烘箱，軟烘充氮烘箱涂膠后，晶片須經(jīng)過一次烘烤，稱之軟烘或前烘。工藝作用是除去膠中大部分溶劑并使膠的曝光特性固定。通常，軟烘時(shí)間越短或溫度越低會使得膠在顯影劑中的溶解速率增加且感光度更高。
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  • 晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱
    晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱潔凈度100級的潔凈熱處理HEPA過濾器與前出風(fēng)型水平層流循環(huán)方式實(shí)現(xiàn)并保證箱內(nèi)的溫度分布的均勻性與100級潔凈度。Z小限度控制風(fēng)速距離。
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  • 無氧烘箱、防氧化烤箱
    無氧烘箱、防氧化烤箱無氧烘箱，在工作時(shí)，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧化烘箱在工業(yè)中的用途：IC包裝，LCD,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板。
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  • 無氧烤箱，厭氧烘箱
    無氧烤箱，厭氧烘箱廣泛用于航天、石油、化工、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位做材料、零件、設(shè)備等的高溫潔凈和無氧干燥及老化試驗(yàn)。
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